Maximale Sub-Fab-Verfugbarkeit
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Das创新Verfahren der极紫外光刻,kurz EUVL oder EUV genannt, ist eine Lithografietechnologie der nächsten Generation, die führende Halbleiterchiphersteller bei der Herstellung fortschrittlichster Halbleiterkomponenten einsetzen wollen。历史技术大师的日记,关于世界历史的日记ermöglicht。Die unmittelbare Herausforderung für EUV ist Die Werkzeugverfügbarkeit。Unsere voll integrerte Sub-Fab-Lösung wid der EUV-Lithographiefertigung erhebliche Vorteile bringen。奥赫纳赫über 10 Jahren der EUV-Unterstützung auf Sub-Fab-Ebene信德的创新之路,führenden Technologielösungen und Systematisierungsfähigkeiten weiterhin best strebt,在einer genemanagten sicheren Umgebung eine maximale Verfügbarkeit und Ausbeute des EUV-Verfahrens zu ermöglichen。
我们将会死去
在世界范围内,在世界范围内,在世界范围内
Höhere Durchflüsse he ßt nicht größere Werkzeuge
回收/ Wiederverwendung
Die Fähigkeit und Erfahrung, sich an Die Kundenanforderungen anzupassen。艾茵·弗多普朗德Durchflüsse贝德埃特·凯恩·弗多普朗德Systemgröße;erfahrenes产品,客户团队,服务支持和全球专有技术。
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我们的泵和水泵können我们的水泵durchführen。Sie müssen den Pumpenauslass anschließen, die Leitungsheizungen and den erforderlichen Stellen verbinden, Wasser-, Spülungs- und Stromleitungen verlegen und dann noch alle Ihre Steuersignale vorbereiten。Außerdem müssen Sie über ein doppeltes Gehäuse, die Gaslecksuche sowie über die Art and Weise, wie Sie nach der Wartung Ihres Werkzeugs Leckprüfungen durchführen werden, nachdenken。所有的一切都与你同在。Wir verstehen dieses Problem and haben deshalb integral, prozessspezifische Lösungen entwickelt。
不可靠的集成系统信德的权利für die meisten Halbleiterprozesse vorkonzipiert。死于阿加斯海赞根之死,死于高温,死于最小的Kosten zu和最大的Betriebszeit zu。Wir setzen Anschlüsse zur Leckprüfung und Schieberventile dort ein, wosie benötigt werden。Das gesamte System ist geschlossen und,是am witichtigsten ist, Sie müssen nur jewelils eine Zuleitung der erforderlichen Betriebsmittel bereitstellen。Wir verteilen Gase, Wasser, Strom and Steuersignale, wo sie gebraucht werden and schaffen ein betriebbereites系统。