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集成解决方案

最大化SubFab可用性

支持我们客户的生产力

在当今瞬息万变、互联互通的世界,我们深知客户需要最大限度地提高生产力。为此,我们确保他们的技术率先推向市场,同时继续努力降低制造过程可能带来的风险和环境挑战。

爱德华兹综合解决方案基于我们的全球经验,采用行业内最先进的技术,评估客户的整个真空和排气管理需求。我们的集成系统提供了产品和服务的可重复性和节省空间的优势。它们提高了生产力、安全和环境保障。我们的集成系统还具有更快的安装和设置速度、规模经济和增强的安全性等直接好处。

EUV

极紫外光刻的创新工艺,简称EUVL或EUV,是领先的半导体芯片制造商计划用于制造最先进半导体组件的下一代光刻技术。这项技术具有历史性的重要性,因为它使摩尔定律得以继续扩展。EUV面临的直接挑战是工具的正常运行时间。我们的完全集成子晶圆厂解决方案将为EUV光刻制造带来显著的好处。凭借超过10年的EUV技术经验,我们创新的领先技术解决方案和系统能力将继续努力在可控的安全环境中实现最大的EUV工艺运行时间和产量。

我们完全理解其中的挑战

  • 风险管理

利用我们的全球经验,确保客户的成功

  • 节能

更高的流量并不意味着更大的工具

回收或重用

  • 扩展

适应客户需求的能力和经验。流量翻倍并不意味着系统经验丰富的产品公司、客户团队、服务支持和全球专业知识的规模翻倍

爱德华兹EUV系统

爱德华兹EUV系统

EZENITH提供先进的系统组合,为您的所有半导体工艺应用提供完全集成的真空和排气管理解决方案。EZENITH系统的独特之处在于:

  • 以过程为中心的真空和排气管理
  • 部件完全集成
  • 支持每个功能与强大的集成控制接口
  • 专为有效利用空间而设计-节省高达70%
  • 全面的内部分配、调节和监控服务,减少超过60%的公用事业连接,同时确保平稳可靠的运行

只有一个泵和一个气体减排设备,您仍然没有准备好运行您的流程。你需要连接泵排气,在需要的地方连接你的加热器,运行你的水,净化和电气线路,然后准备好所有的控制信号。您还必须考虑双层外壳,气体泄漏检测,以及在工具维护后如何进行泄漏检查。所有这些都将消耗你的设计时间和金钱。我们了解这个问题,所以我们开发了集成的、特定于流程的解决方案。

我们的集成系统已经为大多数半导体工艺预先设计。排气加热器设置为正确的温度,以最大限度地减少成本和最大限度地延长运行时间。我们在需要的地方安装检漏口和闸阀。整个系统是封闭的,最重要的是,你只需要提供一个所需的公用设施。我们将气体、水、电和控制信号分配到需要的地方,并创建一个随时可用的系统。

Regis(活性气体注入系统)是一种化学反应系统,使用远程等离子体技术来增加泵的使用寿命。

最新一代Regis具有独特的反应室设计,确保工艺气体在进入泵之前有效反应,将泵的使用寿命延长至300天以上。

与上一代Regis相比,占地面积减少了26.5%。新的Regis系统与高负荷系列干式真空泵相结合,为一系列工艺提供了最长的泵正常运行时间和工艺稳定性。

特点和优点:

  • 拥有成本低:

ReGIS可将泵寿命延长至300天或更长时间

使用FTIR研究优化NF3流量以最小化CoO。

新型反应室设计,反应效率提高100%。

  • 最大化工具正常运行时间:

在线连续操作。

由于频繁更换泵,减少了工具停机时间。

  • 全封闭系统,包括机柜提取端口。
  • PLC控制:

工具信号控制ReGIS等离子点火能力。

增强安全性。

全系统监控。

  • 使进程稳定:

没有性能损失。

电导没有变化。

爱德华兹瑞吉斯

爱德华兹瑞吉斯